近日，由中國計量院舉辦的“微電子和石墨烯產(chǎn)業(yè)中的測量、計量與表征”研討會在昌平院區(qū)召開。此次研討會以微電子產(chǎn)業(yè)和石墨烯產(chǎn)業(yè)對測量、計量和表征技術(shù)的需求為主要研討內(nèi)容，關(guān)注所涉及的測量與表征技術(shù)的發(fā)展前沿、關(guān)鍵技術(shù)和產(chǎn)業(yè)需求，來自中國、美國、英國、德國、法國、日本、澳大利亞等十幾個國家或地區(qū)的計量院、研究院、高校、企業(yè)的50多名代表參會。
　　首先，中國計量院科管部負(fù)責(zé)人介紹了此次研討會的舉辦背景和中國計量院的相關(guān)情況。包括中國計量院在內(nèi)的國內(nèi)外產(chǎn)、學(xué)、研、用單位的10位相關(guān)領(lǐng)域?qū)＜易隽舜髸蟾妗蟾鎯?nèi)容涵蓋：石墨烯產(chǎn)業(yè)發(fā)展與對標(biāo)準(zhǔn)、測量的需求與研究；多層石墨烯層數(shù)表征；基于橢偏光度法的薄膜物性表征；硅半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的計量討論；納米存儲芯片工程化中的測量與表征；中國計量院有關(guān)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)可溯源幾何量測量的研究；基于高分辨透射電鏡和掃描電鏡背散射衍射法對半導(dǎo)體微器件和薄膜應(yīng)力/應(yīng)變的測量；掠入射X射線反射法測納米級薄膜的膜厚；光譜儀在半導(dǎo)體、石墨烯中的應(yīng)用。
　　報告后，國外代表表示中國石墨烯與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展與不斷提高的技術(shù)水平出乎意料，參會代表就相關(guān)問題進(jìn)行了熱烈的交流與討論。隨后，與會代表參觀了中國計量院昌平院區(qū)新材料實驗室。
　　通過主辦此次研討會，中國計量院促進(jìn)了科研人員與企業(yè)的交流。一方面企業(yè)了解到測量表征的新技術(shù)，同時科研人員也開闊了思路與眼界，了解了微電子產(chǎn)業(yè)和石墨烯產(chǎn)業(yè)對測量與表征技術(shù)的需求，為更緊密地圍繞產(chǎn)業(yè)需求進(jìn)行科學(xué)研究，促進(jìn)產(chǎn)、學(xué)、研相結(jié)合奠定了基礎(chǔ)。